AI 芯片生產(chǎn)中的原子層沉積工藝，突出在硅片上沉積超薄層的精度
點 擊 查 看 大 圖
AIGCAI 芯片生產(chǎn)中的原子層沉積工藝，突出在硅片上沉積超薄層的精度
這張圖片展示了 AI 芯片生產(chǎn)中先進的原子層沉積工藝。該工藝具有極高的精度，能夠在硅片上均勻、細致地沉積超薄層。此過程涉及復雜的分子結(jié)構(gòu)，融合了微電子制造、半導體技術(shù)、納米技術(shù)等前沿創(chuàng)新成果，對電路和硬件的制造至關(guān)重要。整個工藝體現(xiàn)了工業(yè)工程的精細控制、高效自動化以及未來研發(fā)的可視化，是一項具有關(guān)鍵性和創(chuàng)新性的技術(shù)。
- 素材ID：836720800舉報
- 格式：JPG
- 作者：Curioso.Photography
- 最大分辨率：5632 x 3456px
- 最大輸出：47.68 x 29.26cm (300dpi) | 198.68 x 121.92cm (72dpi)
? 北京卓特視覺科技有限公司 All Rights Reserved.
版權(quán)聲明：所有視頻、圖片、音樂及字體素材均受著作權(quán)保護，未經(jīng)許可不得轉(zhuǎn)載或發(fā)布
關(guān)于卓特視覺
主要產(chǎn)品
商務合作
市場合作供稿合作大客戶咨詢客服咨詢聯(lián)系我們
400-0168-600北京市朝陽區(qū)朝外大街26號朝外MEN·B座907
京ICP備15019536號 增值電信業(yè)務經(jīng)營許可證 京B2-20210167
京公網(wǎng)安備 11010502045846號 網(wǎng)絡文化經(jīng)營許可證 京網(wǎng)文〔2023〕2258-086號網(wǎng)信算備：110105951222401250011號